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      CT-1Plus電位滴定儀測定槽液中銅離子含量

      發布時間:2019-11-27瀏覽:1038次

      【目的】

      在印刷電路板制造工藝中,蝕刻工藝占有很重要的位置。蝕刻工藝多采用化學法,核心為蝕刻液,蝕刻液有多種體系,氯化銅體系為常見體系之一,了解體系中銅離子的含量情況有助于掌握蝕刻進度和優化工藝,本文采用電位滴定法測定蝕刻槽液中銅離子含量。

      【行業】

      電子

      【檢測指標】

      銅離子含量

      【儀器配置】

      CT-1PLUS型多功能滴定儀 

      Cu-101型銅離子電極

      R-101D雙鹽橋飽和甘汞電極

      【試劑選擇】

      純水

      乙二胺四乙酸二鈉標準溶液(0.05mol/L)

      【操作方法】

      用移液管移取槽液1ml,置于滴定杯中,加水60ml,置于滴定臺上,攪拌1min,設置好滴定參數,用乙二胺四乙酸二鈉標準溶液滴定至終點,同時做空白試驗。

       

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